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InP HEMT Epitaxial Wafers: Low Noise & Custom Growth

InP HEMT Epitaksiale Wafer: Geringes Rauschen und individuelles Wachstum

Die Dicke der Spacer-Schicht beeinflusst das kryogene Rauschen in InP-HEMTs stark, mit einem optimierten Wertausgleich für Mobilität, Gate-Steuerung und Realraumübertragung. Deckschicht-Dotierung und Stabilität müssen ebenfalls gemeinsam mit Metallisierungs- und Lift-off-Prozessen gestaltet werden, um den Kontaktwiderstand niedrig zu halten.

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