SiC-Epitaxie | Hohe Gleichmäßigkeit und niedriger Defekt | Power Wafertech

SiC-Wafers

SiC-Epitaxie

SiC-Epitaktik-Wafer, die durch CVD gezüchtet wurden, liefern eine ausgezeichnete Dickegleichmäßigkeit und eine geringe Defektdichte. Konzipiert für 600V- bis 10kV-Leistungsgeräte (SBDs, MOSFETs, IGBTs) und ermöglicht Hochleistungsanwendungen in Elektrofahrzeugen, Industrieantrieben und erneuerbaren Energien.
  • Polytypen — 4H-SiC (Homoepitaxie) · 3C-SiC (Homo- und Heteroepitaxie)
  • Leitfähigkeit — N-Typ, P-Typ, Halb-isolierend
  • Durchmesser — 2″, 4″, 6″, 8″
  • Dickenbereich — 0,5 – 200μm (anpassbar)
  • Struktur — Individuelle Multilayer, Pufferschichten, präzise Dopingprofile
Detaillierte Spezifikationen

Spezifikationen nach Wafer-Typ.

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Parameter 4H-SiC-Epitaxie
Substrat
Durchmesser 2", 4", 6", 8"
Ausrichtung On-axis, off-axis
Leitfähigkeit N-Typ P-Typ Halbisolierend
Widerstand 0,015 – 0,028 Ω·cm ≤0,3Ω·cm > 1E8 Ω·cm
Oberflächenrauheit ≤ 0,2 nm
MPD ≤ 1cm⁻²
Epi-Schicht
Leitfähigkeit N-Typ P-Typ Halbisolierend
Dickenbereich 0,5 ~ 200μm (Anpassbar)
Dickengleichmäßigkeit ≤ 10% ≤10% ≤10%
Ladungsträgerkonzentration 1E14 ~ 1E19 cm⁻³ 1E14 ~ 1E19 cm⁻³ 1E14 ~ 1E19 cm⁻³
Trägergleichmäßigkeit ≤ 20% ≤ 20% ≤20%
Anwendungen

Wo dieser Wafer Wert liefert

01

Elektro- und Schnellladen

Hochspannungs- und Niederwiderstands-Epi-Schichten für Elektrofahrzeugantriebe und Schnellladesysteme. Optimiert für 650V-1700V SiC-MOSFETs und JBS-Dioden, mit einer hohen Gleichmäßigkeit von ≤4 % und präzisen Dopingprofilen.

02

Industrie- und erneuerbare Energien

Zuverlässige Epi-Wafer, die für die Energieumwandlung in harten Umgebungen und schwere Maschinen entwickelt wurden. Entwickelt für leistungsstarke SiC-MOSFETs, SBDs und 1200V+-Leistungsmodule in Solarwechselströmern, Energiespeichern und Schienenverkehrssystemen.

03

KI-Rechenzentrumsleistung

Ermöglichen von ultra-niedrigen Switching-Verlust-Epi-Schichten für Hochdichte-Server-Netzteile (PSUs). Maßgeschneidert für Graben-MOSFETs und hocheffiziente Gleichrichter, die niedrige BPDs und minimale Oberflächenrauheit für maximale Energieeffizienz liefern.

04

Ultrahochspannung (Grid & ESS)

Dicke epitaxiale Schichten für intelligente Netze der nächsten Generation und Energiespeichersysteme (ESS). Wir unterstützen 10 kV+ IGBTs, GTOs und PN-Übergänge mit unserer ultradicken Epi-Fähigkeit von 30 bis 200 μm.

FAQ

Häufige Fragen zu diesem Produkt

Schnelle Antworten zur Materialauswahl, Anpassung, Prüfung und Bestellung.

Bei der Standard-4H-SiC-Homoepitaxie kann die Trägerkonzentration über etwa 1×10¹⁴ bis 1×10¹⁹ cm⁻³ kontrolliert werden. Das hängt vom Leitfähigkeitstyp (N-Typ oder P-Typ) und deinem spezifischen Epi-Design ab.

Bei der Standard-4H-SiC-Homoepitakie kann die Dickengleichmäßigkeit auf etwa ≤10 % kontrolliert werden. Bei ausgewählten P-Typ-SiC-Epi-Strukturen kann die Gleichmäßigkeit ≤4 % erreichen. Die tatsächliche Leistung hängt von Wafergröße, Epi-Dicke und Struktur ab.

Ja. PWG kann benutzerdefinierte mehrschichtige epitaxiale Strukturen entwickeln, darunter Pufferschichten, Stromverteilungsschichten, Kanalschichten, Barriereschichten und andere gerätespezifische Strukturen.

Ja. Wir bieten 30–200 μm dicke SiC-Epitaxialschichten für Ultrahochspannungsanwendungen (bis zu 10 kV+) an. Dicke, Dotierungskonzentration und Gleichmäßigkeit werden entsprechend Ihrer Zieldurchschlagsspannung optimiert.

Wir implementieren eine strenge Epi-Prozesskontrolle, um Basalebenen-Dislokationen (BPDs) und Stacking-Fehler (SFs) zu minimieren. Die typische Fehlerdichte wird auf branchenführendem Niveau gehalten, um eine hohe Geräteausbeute und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Vollständige Kartendaten sind auf Anfrage verfügbar.

Technische Untersuchung

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Nr. 1389, Lianmei Road, Lianhua Industriezone, Tong'an, Xiamen, Fujian 361100, China

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