GaN Leistungselektronik
AlN-on-Silicon-Vorlagen können als Pufferplattform für GaN-on-Si-Stromgeräte verwendet werden, einschließlich GaN-HEMTs und hocheffizienten Schaltgeräten.
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* Typische Spezifikationen; Die tatsächlichen Werte können je nach Wafergröße, Substrat und Wachstumsbedingungen variieren.
AlN-on-Silicon-Vorlagen können als Pufferplattform für GaN-on-Si-Stromgeräte verwendet werden, einschließlich GaN-HEMTs und hocheffizienten Schaltgeräten.
AlN-auf-Silizium-Vorlagen können je nach epitaxischem Design auch ausgewählte GaN-RF- und Hochfrequenzbauelementstrukturen unterstützen. Typische Anwendungen sind:
Die Vorlagen bieten eine kontrollierte AlN-Schnittstelle für das anschließende epitaxische Wachstum von GaN / AlGaN, was sie für Forschung und Entwicklung von GaN-HEMT-Strukturen geeignet macht.
Schnelle Antworten zur Materialauswahl, Anpassung, Prüfung und Bestellung.
Die typische AlN-Dicke reicht von 50 nm bis 1 μm und kann entsprechend der epitaxischen GaN-Architektur angepasst werden.
Ja. Kleine Mengen und individuell angepasste Spezifikationen können für Forschungs- und Prototypenprojekte diskutiert werden.
Bitte geben Sie Waferdurchmesser, Siliziumorientierung, AlN-Dicke, Menge und Zielanwendung an. Anschließend können wir eine geeignete Spezifikation und ein Angebot empfehlen.
Technische Untersuchung
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