AlN auf Silizium-Vorlage — 4/6/8 Zoll Si, GaN-on-Si-Puffer | PWG

AlN-Vorlage

AlN auf der Silizium-Schablone

AlN auf Silizium-Vorlagen bietet eine hochwertige Schnittstelle und eine Pufferplattform für die nachfolgende GaN-Epitaxie und unterstützt die Entwicklung von leistungsstarken GaN-Strom- und HF-Geräten.
  • Substrat Silizium (100) oder (111)
  • Größe 4", 6", 8", anpassbar
  • Epi-Dicke 50nm~1μm
  • Oberflächenbeschichtung Epi-Ready
  • XRD FWHM (0002) Typischer ≤1050 Arcsec
  • Individuelle Spezifikation Akzeptabel
  • Paket Einzelwafer-Kassette, vakuumversiegelt
Detaillierte Spezifikationen

Veröffentlichte Spezifikationen nach Waferdurchmesser.

Select a diameter to review the corresponding published specification set.

ParameterAlN auf der Silizium-Schablone
SubstratSilizium
Substratorientierung(111) / (100)
Größe4", 6", 8" und individuell angepasst
AlN-Filmdicke50nm–1μm, anpassbar
XRD FWHM (0002)≤1050 Arcsec*
OberflächenrauheitRa
OberflächeEpi-ready
HauptfunktionAlN-Puffer / Vorlage für GaN-on-Si-Epitaxie

* Typische Spezifikationen; Die tatsächlichen Werte können je nach Wafergröße, Substrat und Wachstumsbedingungen variieren.

Anwendungen

Wo dieser Wafer Wert liefert

01

GaN Leistungselektronik

AlN-on-Silicon-Vorlagen können als Pufferplattform für GaN-on-Si-Stromgeräte verwendet werden, einschließlich GaN-HEMTs und hocheffizienten Schaltgeräten.

02

GaN-RF-Geräte

AlN-auf-Silizium-Vorlagen können je nach epitaxischem Design auch ausgewählte GaN-RF- und Hochfrequenzbauelementstrukturen unterstützen. Typische Anwendungen sind:

03

GaN HEMT Epitaxie

Die Vorlagen bieten eine kontrollierte AlN-Schnittstelle für das anschließende epitaxische Wachstum von GaN / AlGaN, was sie für Forschung und Entwicklung von GaN-HEMT-Strukturen geeignet macht.

FAQ

Häufige Fragen zu diesem Produkt

Schnelle Antworten zur Materialauswahl, Anpassung, Prüfung und Bestellung.

Die typische AlN-Dicke reicht von 50 nm bis 1 μm und kann entsprechend der epitaxischen GaN-Architektur angepasst werden.

Ja. Kleine Mengen und individuell angepasste Spezifikationen können für Forschungs- und Prototypenprojekte diskutiert werden.

Bitte geben Sie Waferdurchmesser, Siliziumorientierung, AlN-Dicke, Menge und Zielanwendung an. Anschließend können wir eine geeignete Spezifikation und ein Angebot empfehlen.

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