Tief-UV-LEDs
AlN-on-saphir-Templates werden häufig als Ausgangsplattform für AlGaN-basierte UVC-LEDs verwendet, insbesondere für UV-Emissionen im Bereich von etwa 200–280 nm.
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AlN-on-saphir-Templates werden häufig als Ausgangsplattform für AlGaN-basierte UVC-LEDs verwendet, insbesondere für UV-Emissionen im Bereich von etwa 200–280 nm.
Geeignet als epitaxiale Vorlage für die Entwicklung von AlGaN-basierten UV-Laserdiodenstrukturen und anderen kurzwelligen optoelektronischen Bauelementen.
Dient als Vorlage für das spätere Wachstum von AlGaN, AlN und verwandten epitaxischen Strukturen mit breiter Bandlücke für Forschung und Geräteentwicklung.
AlN-on-saphir kann je nach Ziel-Epitaxial-Design auch als konstruierte Nukleations- oder Pufferplattform für ausgewählte GaN-basierte elektronische und RF-Strukturen verwendet werden.
Schnelle Antworten zur Materialauswahl, Anpassung, Prüfung und Bestellung.
Die typische AlN-Filmdicke liegt zwischen 0,5 μm und 5 μm. Die Dicke kann je nach Zielstruktur des Epitaxis angepasst werden.
Ja. Die Templates sind mit einer epi-reifen, glatten Oberfläche ausgestattet, die für nachfolgende AlGaN-, AlN- und verwandte epitaxiale Schichten geeignet ist.
Ja. Unsere AlN-on-saphir-Vorlagen können als Ausgangsplattform für AlGaN-basierte UVC-LED- und andere DUV-Gerätestrukturen verwendet werden.
Ja. Kleine Mengen und maßgeschneiderte Spezifikationen können für Forschung und Prototypenentwicklung diskutiert werden.
Technische Untersuchung
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Ingenieursgesteuerte Reaktion
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Nr. 1389, Lianmei Road, Lianhua Industriezone, Tong'an, Xiamen, Fujian 361100, China
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