AlN auf Saphir-Vorlage — C-Plane, 2–6 Zoll, Epi-Ready | PWG

AlN-Vorlage

AlN über die Saphirvorlage

Saphirbasierte AlN-Vorlagen sind in verschiedenen Wafergrößen und anpassbaren AlN-Dicken und -Ausrichtungen erhältlich; AlN-auf-Saphir-Vorlagen mit hoher kristalliner Qualität und niedriger Fehlerdichte eignen sich sowohl für Forschung & Entwicklung als auch für die Entwicklung von Geräteproduktionen.
  • Substrat C-Plane Sapphire (andere Ausrichtungen verfügbar)
  • Größe 2", 4", 6", anpassbar
  • Epi-Dicke 0,5~5μm
  • Oberflächenbeschichtung Epi-Ready
  • XRD FWHM (0002) typische <500 Bogensekunden
  • Individuelle Spezifikation Akzeptabel
  • Paket Einzelwafer-Kassette, vakuumversiegelt
Detaillierte Spezifikationen

Veröffentlichte Spezifikationen nach Waferdurchmesser.

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ParameterAlN über die Saphirvorlage
SubstratmaterialSaphir (Al₂O₃)
SubstratorientierungC-Plane-Standard; Weitere verfügbare Ausrichtungen
Größe2", 4", 6" und individuell angepasst
AlN-Filmdicke0,5–5 μm (pro Anwendung optimisierbar)
Oberflächenrauheit (AFM)Ra
XRD FWHM (0002)Typischerweise
Anwendungen

Wo dieser Wafer Wert liefert

01

Tief-UV-LEDs

AlN-on-saphir-Templates werden häufig als Ausgangsplattform für AlGaN-basierte UVC-LEDs verwendet, insbesondere für UV-Emissionen im Bereich von etwa 200–280 nm.

02

UV-Laserdioden

Geeignet als epitaxiale Vorlage für die Entwicklung von AlGaN-basierten UV-Laserdiodenstrukturen und anderen kurzwelligen optoelektronischen Bauelementen.

03

AlGaN / AlN Epitaxie

Dient als Vorlage für das spätere Wachstum von AlGaN, AlN und verwandten epitaxischen Strukturen mit breiter Bandlücke für Forschung und Geräteentwicklung.

04

GaN-basierte Geräte

AlN-on-saphir kann je nach Ziel-Epitaxial-Design auch als konstruierte Nukleations- oder Pufferplattform für ausgewählte GaN-basierte elektronische und RF-Strukturen verwendet werden.

FAQ

Häufige Fragen zu diesem Produkt

Schnelle Antworten zur Materialauswahl, Anpassung, Prüfung und Bestellung.

Die typische AlN-Filmdicke liegt zwischen 0,5 μm und 5 μm. Die Dicke kann je nach Zielstruktur des Epitaxis angepasst werden.

Ja. Die Templates sind mit einer epi-reifen, glatten Oberfläche ausgestattet, die für nachfolgende AlGaN-, AlN- und verwandte epitaxiale Schichten geeignet ist.

Ja. Unsere AlN-on-saphir-Vorlagen können als Ausgangsplattform für AlGaN-basierte UVC-LED- und andere DUV-Gerätestrukturen verwendet werden.

Ja. Kleine Mengen und maßgeschneiderte Spezifikationen können für Forschung und Prototypenentwicklung diskutiert werden.

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